中国建议与国家相关的组织使用分辨率为65纳米或更好的新型光刻机,这表明其自主研发的深紫外技术有所改进。 (Yuan Gao/Bloomberg)

中国提高了其自主研发的DUV设备的分辨率,但在先进的光刻技术系统方面仍远远落后。

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